College of Industrial Technology, Nihon University　Shimizu Laboratory

研究活動

2012年

3月　第59回　応用物理学関係連合講演会(早稲田大学）

  1. 駒﨑 洋文、浅野 英輝　
    「原子状水素供給スパッタリング法によるシリコン薄膜の高性能化(IV)」
  2. 小野瀬匡彦，佐藤敏幸,北野幸樹,新妻清純,日秋俊彦,清水耕作 　
    「酸化物半導体InGaZnO4/CuAlO2接合の作製と評価(Ⅲ)」

1月　第341回　蛍光体同学会　(キャンパスイノベーションセンター東京)

  1. 清水耕作　
    「螢光体を用いた波長変換膜の作製と太陽電池への応用」

2011年

12月　グリーンデバイステクノロジー　■エレクトロニクスは新たなステージへ■
(奈良先端科学技術大学院大学）

  1. 清水耕作　
    「シリコン微粒子を用いた低環境負荷デバイスの作製と高性能化検討」

11月　第8回薄膜材料デバイス研究会in京都「新しいデバイス材料」(龍谷大学Avanti響都ホール）

  1. 駒﨑 洋文、浅野 英輝　
    「原子状水素供給スパッタリング法によるシリコン薄膜の高性能化(II)」
  2. 清水 耕作 　
    「Rfスパッタリング法を用いたSrTiO3:Pr,AlおよびCaTiO3:Pr蛍光薄膜の作製と評価」
  3. 小野瀬匡彦　
    「a-CuAlO2/a-InGaZnO4接合の作製と評価」
  4. 北村 啓、小林 浩二、刀根 仁　
    「酸化物半導体薄膜を用いた界面特性評価(II)」

10月　第3回薄膜太陽電池セミナー（ラフレ埼玉）

  1. 小野瀬匡彦
    「酸化物半導体InGaZnO4CuAlO2接合の作製と評価」
  2. 浅野 英輝、駒﨑 洋文
    「スパッタリング法を用いたシリコン薄膜太陽電池への応用」

9月　千葉県オープンフォーラム（千葉工業大学）

  1. 小野瀬匡彦、永井将司
    「高効率太陽電池の作製　～自給自足型給配電をめざして～」

8月　第72回応用物理学会関連講演会（山形大学　小白川キャンパス）

  1. 小林浩二
    「変調アドミッタンス法を用いた MIS界面の欠陥準位の評価」
  2. 刀根　仁
    「酸化物半導体 InGaZnO4薄膜の欠陥評価（Ⅲ）」
  3. 浅野英輝
    「原子状水素供給スパッタリング法を用いたシリコン薄膜の高性能化(Ⅲ)」
  4. 小野瀬匡彦
    「酸化物半導体を用いたpn接合の 作製と評価 (Ⅱ)」

6月　第8回　CAT-CVD研究会

  1. 浅野英輝　「原子状水素供給スパッタリング法を用いたシリコン薄膜の高性能化」

3月　第58回応用物理学会関連講演会（神奈川工科大学）中止

  1. 小林浩二
    「MIS界面の欠陥準位評価」
  2. 浅野英輝
    「原子状水素供給スパッタリング法によるシリコン薄膜の高性能化(II)」
  3. 小野瀬匡彦
    「酸化物半導体InGaZnO4-CuAlO2接合の作製と評価」
  4. 刀根仁
    「変調アドミタンス法を用いた酸化物半導体InGaZnO4の欠陥評価(II)」

2010年

11月　第7回薄膜材料デバイス研究会in奈良「薄膜デバイスの理解と解析」

  1. 大橋拓也　
    「スパッタリング法を用いたSrTiO3:Pr,Al薄膜の作製」
  2. 浅野英輝　
    「原子状水素供給スパッタリング法によるシリコン薄膜の高性能化」
  3. 小野瀬匡彦　
    「a-CuAlO2/a-InGaZnO4の接合特性」
  4. 刀根仁　小林浩二　
    「酸化物半導体薄膜を用いた界面特性評価」

9月16日　第71回応用物理学会学術講演会（長崎大）

  1. 大橋拓也　
    「スパッタリング法を用いたSrTiO3:Pr,Al薄膜の作製」
  2. 前田督快　
    「変調アドミタンス法を用いたアモルファス酸化物半導体InGaZnO4の欠陥評価」
  3. 増田洋平、浅野英輝　
    「原子状水素供給スパッタリング法によるシリコン薄膜の高性能化」
  4. 石橋大典　
    「CFD法によるホットワイヤ水素化条件の検討(Ⅲ)」

3月18日　第57回応用物理学会関係連合講演会（東海大）

  1. 大橋拓也　
    「スパッタリング法を用いたSrTiO3:Pr,Al薄膜の作製」　　大橋拓也

2009年

12月　第42回(平成21年度)日本大学生産工学部学術講演会

  1. 前田督快
    「アモルファスInGaZnO薄膜のギャップ内準位の評価」
  2. 石橋大典
    「CFD法によるホットワイヤ水素化処理シミュレーション」

9月　秋季　第70回応用物理学会学術講演会(富山大)

  1. 前田督快　
    「CPM法によるアモルファス酸化物半導体In-Ga-Zn-O薄膜の裾状態評価(Ⅳ)」
  2. 石橋大典
    　「CFD法によるホットワイヤ水素化条件の検討(2)」

8月　ICANS23　Utrecht, The Netherlands

  1. K. Shimizu
    “Characterization of subgap states in amorphous In-Ga-Zn-O by Constant Photocurrent Method”