日本大学生産工学部 清水研究室

研究内容 : 主な使用装置

製膜装置1 2チャンバ式薄膜作製装置
(ホットワイヤ,スパッタ)

製膜装置2

4 RIE(Reactive Ion Etching)装置

a-IGZOのギャップ内準位

波長変換評価システム

高周波および低周波CV評価装置

ホール効果測定装置

CFD (Computational Fluid Dynamics)法による
ガス流体シミュレーション

5元スパッタ装置

光学式多層膜厚評価装置

ソーラーシミュレータ

加熱プレス機 (5MPa、300℃)

窒素置換型オーブン (40〜300℃)

マッフル炉 (〜1200℃)

クリーンドラフト

純水製造装置

スペクトラムアナライザ(0.35μm〜1.75μm)

抵抗率計(10-3〜10-7Ωcm)

抵抗加熱蒸着機

マスクアライナー

ガス流体シミュレータ

熱解析シミュレータ

デバイスシミュレータ

半導体パラメータアナライザ

ADVANTEST R6245

クリーンベンチ

顕微鏡-2

UV-VIS絶対反射付き分光器

PYS-IPES