研究内容 : 主な使用装置
製膜装置1 2チャンバ式薄膜作製装置
(ホットワイヤ,スパッタ)
製膜装置2
4 RIE(Reactive Ion Etching)装置
a-IGZOのギャップ内準位
波長変換評価システム
高周波および低周波CV評価装置
ホール効果測定装置
CFD (Computational Fluid Dynamics)法による
ガス流体シミュレーション
5元スパッタ装置
光学式多層膜厚評価装置
ソーラーシミュレータ
加熱プレス機 (5MPa、300℃)
窒素置換型オーブン (40〜300℃)
マッフル炉 (〜1200℃)
クリーンドラフト
純水製造装置
スペクトラムアナライザ(0.35μm〜1.75μm)
抵抗率計(10-3〜10-7Ωcm)
抵抗加熱蒸着機
マスクアライナー
ガス流体シミュレータ
熱解析シミュレータ
デバイスシミュレータ
半導体パラメータアナライザ
ADVANTEST R6245
クリーンベンチ
顕微鏡-2
UV-VIS絶対反射付き分光器
PYS-IPES